Reinraum-Zentrum

Mit diesem Gerät können Proben mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll fotolithografisch strukturiert werden. Dabei können Strukturgrößen bis hinab zu ca. 1 µm realisiert werden. Bei mehrstufigen Prozessen läßt sich typischerweise eine Justiergenauigkeit von etwa 1-2 µm erreichen. Zudem verfügt das Gerät über eine Infrarot-Option, wodurch die Justage auch auf eine sich auf der Probenrückseite befindende Struktur erfolgen kann.

Mit dem Nanoscribe Photonic Professional GT2 können dreidimensionale Mikrostrukturen aus Fotolack hergestellt werden, die beispielsweise in der Mikrofluidik und Mikrooptik Anwendung finden. Je nach Anwendung können dabei sehr kleine Strukturen bis zu einer Größe von ca. 200 nm erzeugt werden. Die gewünschten Strukturen werden dazu digital mit Hilfe einer CAD Software entworfen (so dass keine Foto-Masken benötigt werden).

In dieser Anlage sind drei Parallelplatten-Reaktoren über eine zentrale Schleuse und ein vollautomatisches Transfersystem zu einem Cluster verbunden. Dabei ist die erste Kammer für Ätzprozesse mit chlorhaltigen Gasen vorgesehen, während die zweite Kammer Ätzprozessen mit fluorhaltigen Verbindungen vorbehalten ist. In der dritten Kammer lassen sich Depositionsprozesse von dielektrischen Schichten durchführen, wobei deren mechanische und optische Eigenschaften über das Mischen hochfrequenter und niederfrequenter Plasmaanregung optimiert werden können.

In der Aufdampfkammer befinden sich ein Elektronenstrahlverdampfer (3kW) mit 6 Tiegeln, zwei thermische Verdampfer sowie ein inverser Argon-Sputterätzer. Der Probenteller ist drehbar und läßt sich wahlweise kühlen oder heizen. Zudem ermöglicht ein Schwingquarz die genaue Steuerung der Aufdampfrate und der Dicke der deponierten Schicht.

In dem RTP-Tower, der aus zwei getrennten Ofen-Kammern besteht, können Proben mit Heizraten von bis zu 200ºC/min kurzzeitig auf Temperaturen von bis zu 1250ºC gebracht werden. Die Prozesse finden dabei in der Regel unter Schutzgas oder reinem Sauerstoff statt. Für die zuverlässige Temperaturkontrole stehen sowohl ein Thermoelement als auch ein Pyrometer zu Verfügung. Die Öfen gewährleisten eine hohe Reproduzierbarkeit und Homogenität bei einem Probendurchmesser von bis zu 4 Zoll.

Das mechanische Profilometer erlaubt die schnelle und einfache Bestimmung von Schichtdicken zwischen ca. 10 nm und 262 µm. Dabei können Scans mit einer Länge zwischen 50 µm und 30 mm aufgenommen werden.

Das vielseitige, halbautomatische Mikroskop bietet zahlreiche Kontrastverfahren (BF, DF, DIC, Pol), um verschiedenste Proben im Auflicht- oder Durchlichtbetrieb zuverlässig zu beurteilen. Eine Kamera ermöglicht darüberhinaus die digitale Bilderfassung und Analyse am angeschlossenen Rechner.