• Kathodenstrahl-Sputtern in speziellem UHV-System mit Analyseeinrichtungen
• Magnetron-Sputtern im HV und im Hintergrundgas
• Elektrochemische Anlagen zu Clusterherstellung
• Gepulste Laser Deposition (in Zusammenarbeit mit H.-U. Krebs)

Probencharakterisierung:

• Röntgenbeugung in Bragg-Brentano Geometrie und mit Texturgoniometer
  
• Röntgenbeugung in Bragg-Brentano sowie Durchstrahl-Geometrie am DESY, HASYLAB in Hamburg
  
• (SEM)
  
• Transmissions-Elektronenmikroskopie (HR-TEM, STEM, EDX)
  
• Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS)
  
• Tomographische Atomsonde, Feldionenmikroskopie (FIM, AP-FIM,TAP)
  
• UHV-Rastersondenmikroskopie (UHV-AFM, UHV-STM) an speziellem UHV-System
  
• Lichtmikroskopie (LM)
  
• in Zus. mit Firma Mahr sowie der HAWK, Göttingen
  
• GISAX am DESY, HASYLAB in Hamburg
  
• EXAFS am DESY, HASYLAB in Hamburg
  

• HV-Gasvolumetrie (300 K - 873 K) zur Bestimmung des chemischen Potentials
• HV-Gasgravimetrie zur Bestimmung des chemischen Potentials
• elektrochemische Doppelzelle zur Bestimmung des chemischen Potentials sowie der Diffusionskonstanten
• in-situ Röntgenbeugung in Bragg-Brentano sowie Durchstrahl-Geometrie am DESY, HASYLAB in Hamburg
• in-situ Bestimmung mechanischer Spannungen durch Messung der Substratkrümmung
• Oberflächenmorphologie durch UHV-AFM, UHV-STM unter kontollierten Gaspartialdrücken
• Lichtmikroskopische Untersuchung der kontrollierten Schichtdelamination
• in-situ Widerstandsmessungen an Wachstumsinseln
• GISAX am DESY, HASYLAB in Hamburg
• EXAFS am DESY, HASYLAB in Hamburg